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40nm工艺下反向窄沟道效应对VLSI电路设计的影响
更新时间:2026-09-04
    • 40nm工艺下反向窄沟道效应对VLSI电路设计的影响

    • Application of Inverse Narrow Width Effect in VLSI at 40 nm Process

    • 微电子学与计算机   2014年31卷第4期 页码:100-102
    • 纸质出版:2014

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  • 40nm工艺下反向窄沟道效应对VLSI电路设计的影响[J]. 微电子学与计算机, 2014, 31(4): 100-102,107. DOI:

    Application of Inverse Narrow Width Effect in VLSI at 40 nm Process[J]. 2014, 31(4): 100-102. DOI:

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