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基于锗硅BiCMOS工艺的低噪声差分放大器设计
更新时间:2026-09-04
    • 基于锗硅BiCMOS工艺的低噪声差分放大器设计

    • Design of a Differential Lower Noise Amplifier Using SiGe BiCMOS Technology

    • 微电子学与计算机   2017年34卷第5期 页码:35-39
    • 纸质出版:2017

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  • 张华斌, 刘萍, 邓春健, 杨健君, 刘黎明, 陈卉, 王红航, 熊召新. 基于锗硅BiCMOS工艺的低噪声差分放大器设计[J]. 微电子学与计算机, 2017, 34(5): 35-39. DOI:

    ZHANG Hua-bin, LIU Ping, DENG Chun-jian, et al. Design of a Differential Lower Noise Amplifier Using SiGe BiCMOS Technology[J]. 2017, 34(5): 35-39. DOI:

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