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掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究
机械制造 | 更新时间：2026-07-30

    • 掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究

    • 掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究

    • 机械制造与自动化   2023年52卷第5期 页码：108-110+114

    • DOI：10.19344/j.cnki.issn1671-5276.2023.05.025    

      中图分类号：

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  • 吴传冬, 张彦, 蔡康捷, 等. 掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究[J]. 机械制造与自动化, 2023,52(5):108-110+114. DOI： 10.19344/j.cnki.issn1671-5276.2023.05.025.

    吴传冬, 张彦, 蔡康捷, et al. 掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究[J]. 2023, 52(5): 108-110+114. DOI： 10.19344/j.cnki.issn1671-5276.2023.05.025.

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